您的位置: 首頁(yè) > 技術(shù)文章 > 等離子清洗機的清洗原理

等離子清洗機的清洗原理

更新時(shí)間:2024-04-09瀏覽:1597次

  進(jìn)口等離子清洗機的清洗原理是在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達到清洗目的。
 
  真空等離子清洗機由真空發(fā)生系統、電氣控制系統、等離子發(fā)生器、真空腔體及相關(guān)機械等幾個(gè)部分構成。應用時(shí)可以根據客戶(hù)的要求定制符合客戶(hù)需要的真空等離子清洗機。
 
  真空等離子清洗機利用兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng),用真空泵實(shí)現有效的真空度,隨著(zhù)氣體越來(lái)越稀薄,分子之間的間距及分子或離子的自由運動(dòng)的距離也越來(lái)越長(cháng),受磁場(chǎng)作用發(fā)生碰撞而形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內的空間運動(dòng),并不斷轟擊被處理物體表面,去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有機物以及其它化學(xué)物質(zhì),以此達到表面處理清洗和刻蝕的效果。
  
  真空離子清洗機廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕,聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序,因此廣泛應用于汽車(chē)領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。
 
  在這種情況下,等離子處理可以產(chǎn)生以下效果:
 
  1、灰化表面有機層
 
  污染物在真空和瞬時(shí)高溫下的部分蒸發(fā),污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。
 
  紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應該太厚。指紋也適用。
 
  2、氧化物去除
 
  這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時(shí)也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時(shí)用幾種氣體處理。
 
  3、焊接
 
  通常,印刷電路板應在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后,這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除,否則會(huì )引起腐蝕和其他問(wèn)題。
 

 

Contact Us
  • QQ:3218790381
  • 郵箱:[email protected]
  • 地址:上海市閔行區中春路7001號C座1003室

掃一掃  微信咨詢(xún)

©2024 上海爾迪儀器科技有限公司 版權所有    備案號:滬ICP備19038429號-5    技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng)    Sitemap.xml    總訪(fǎng)問(wèn)量:112657    管理登陸